上海沃埃得贸易有限公司

激光直写机的工作区域可匹配各类掩膜或基板尺寸。包含一个真空仓（仓体表面通常根据客户要求定制）。基板尺寸可以大于或等于工作区域。

150150

(6”x6”)

150150

(6”x6”)

5050

(2”x2”)

up to 350350

这一参数代表的是在整个工作区域的**定λ误差以及由于不同的掩膜或工艺水平所可能导致的特征重叠。但这与所达到的分辨率无关，如**小线宽。

± 0.1

± 1

± 1

10 nm分辨率

Yes

No

No

**小线宽操作者可以在0.8、2、4或8 μm间进行选择。对于高密度互联或微波电·的快速直写，可选择一个极低分辨率的模式（10m）。

0.8

0.8

2

直写光束的标准波长为405nm（来源于GaN固体激光）。对于生物化学应用可选配325nm波长（来源于He-Cd 气体激光）。

405

405

405

325, 375, 405&375

包含所有标准的含防护层的膜（铬或氧化铁）。除了掩膜直写，本系统也适用于在**终基板上进行无膜直接套写（硅、GaAs、InP、微波\低温\生物学基板等）。

Yes

Yes

Yes

-

LW405能套写过程基板如激光直写（LDW）玻璃膜（详见http://www.canyonmaterials.com/ldw.html）

Yes

Yes

Yes

-

持续监测曝光水平使其在整个直写过程中保持稳定。对于灰度曝光，持续保持参考水平。

Yes

Yes

Yes

-

也提供可变的像素对像素曝光（灰度套写）用于制造衍射光学和MEMs等。

Yes

Yes

Yes

-

显微光刻步骤中，有些过程可以利用减少的平面分辨率。典型的例子是使用粗糙表面作为基板（如：铝）。激光直写系统分辨率的改变是通过替换光束聚焦器件来实现，过程只需几秒钟。

Yes

Yes

Yes

-

ÿ个光学器件、机械及电子子系统在组成激光直写单元之前都经过仔细的清洗消毒。ÿ个单元都是在洁净室内进行组装及测试，以此将在操作环境中颗粒释放的可能性降到**。

Yes

Yes

Yes

-

ÿ套系统包括一个CCD摄像头以及相关的照明系统。使操作者可以使用激光直写作为一套表面检查和计量的系统。还包含一个高分辨率的电子摄像头以及相关的在线图像捕捉和处理系统。

Yes

Yes

Yes

-

激光直写包含一套全自动聚焦跟踪系统。可用于动态保持激光束聚焦在基板上，即使是凹凸或倾斜的情况。

Auto

Auto

Manual

-

这一选配用于低平整度或轻微凹凸基板上的显微光刻操作。

Yes

Yes

No

-

套写也可在轻微倾斜的样品上进行（**2°）。主要用于研发环境，如被粘在大尺寸夹具上的小样品。尽管样品本身是平面的，但是不平整的胶水层在激光束照射下仍能影响正交。在这种情况下，操作者能轻易指令机器在直写过程中按照基板的平面进行。

Yes

Yes

No

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如果选择无膜过程，所有不同的显微光刻过程都在同一个工作样品上进行。为了使不同层图案互相对其，在LaserDraw软件包中包含一个特殊的步骤。ÿ个新的图案水平与样品上已有的参考图案相对齐。

Yes

Yes

Yes

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全手动控制模式在系统作为检验和计量站以及用于人工修整和光处理时很有用。

Yes

Yes

Yes

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激光直写由MICROTECH专有的数据格式驱动—LDF(LaserDraw Format)—可由各种工业标准语言自动转换，如 CIF, DXF, GDSII。

Yes

Yes

Yes

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标准的套写方式是基于光栅扫描结合光束-基板移动（光束扫描模式或者基板扫描模式）

Yes

Yes

Yes

-

在特定应用是可选择纯矢量模式。

Yes

Yes

Yes

-

该系统可直接安装在地面上。标配含有被动振动隔离脚架。主动振动隔离可选配，通常用于台式安装。

Yes

Yes

No

Active

提供负责人员的操作培训，由MICROTECH工程师直接监管。

6

6

6

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针对所有系统，提供关于标准和激光光刻的专业课程。该课程在设备安装调试后，直接在客户现场进行。

Yes

Yes

Yes

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提供本地及远程紧急停止按钮和联锁。所有系统组成符合国际规定并持有CE标志保证安全操作及电磁兼容。

Yes

Yes

Yes

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